全球热门:应用材料推出新设备，有望降低EUV光刻成本

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3月1日讯，近日，应用材料公司推出了一款新的电子束测量设备，专门用于精确测量采用EUV和新兴的High-NA EUV光刻技术的半导体器件的关键尺寸，可有效降低光刻工艺的成本。该设备被称为VeritySEM 10关键尺寸扫描电子显微镜(CD-SEM)测量系统。